Technologia płaskiego punktu LUX (FTD – flat top dot)
polega na odcięciu dostępu tlenu podczas naświetlania UV w celu uniknięcia zjawiska inhibicji tlenowej.
O ile w przypadku DigiFlow klisza podczas naświetlania UV jest umieszczana w środowisku gazu obojętnego to LUX polega na laminacji kliszy specjalną membraną.
Oferujemy dwa rodzaje membran: M100 (transparentna) i M200 (matowa).
M100 odcina dostęp tlenu i tworzy gładkie powierzchnie apli i punktów rastrowych. M200 odcina dostęp tlenu, ale dzięki swojej strukturze tworzy na powierzchni
reliefu porowatą strukturę (na punktach, kreskach i aplach) poprawiającą reologię farby.
W połączeniu ze specjalnymi rodzajami rastra HD (dla punktów i apli) stosowanych przez nas podczas procesu ripowania oraz grawerowania klisz w rozdzielczości
4000dpi z optyką Pixel+, daje to dodatkowe możliwości poszerzenia naszej oferty szeroko rozumianego HD Flexo.
Na zdjęciu mikroskopowym widać porównanie kliszy naświetlanej membraną 200 (góra) i membraną 100 (dół).
